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提供大氣等離子清洗機、真空等離子清洗機、寬幅等離子清洗機、微波等離子清洗機、等離子去膠機、接觸角測量儀、USC干式超聲波除塵、遠程等離子源RPS等一站式服務設備
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可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型
全自動雙腔設計，可兼容6-8英寸WAFER
可測單晶片樣品的最大尺寸為12英寸
溫度可達1250℃，可測單晶片樣品最大尺寸為6英寸
自由基分子的等離子體無偏壓，不會對產品有電性損壞，去膠速率快
可測量樣品表面疏水性、潤濕性能、表面張力等測試功能
