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        晟鼎小講堂 | 從硅片到電池片,看看晟鼎等離子清洗技術如何用?

        2023-03-09

        從硅片到電池片,看看等離子清洗技術如何用?

        上期,我們分享了《等離子如何提升太陽能光伏板封裝可靠性》

        本期,我們一起聚焦細分工藝,了解等離子清洗在太陽能光伏電池片中的應用!


        硅基光伏電池片制程


        從硅片到電池片:

        以目前主流的單晶硅PERC電池制作流程為例,從硅片到電池片大概要經歷:

        清洗制絨→擴散制結→刻蝕&去磷硅玻璃→PECVD→印刷電極&燒結→分選測試/檢驗入庫等,而在清洗、制絨、刻蝕、PECVD等環(huán)節(jié),均可使用晟鼎等離子清洗機,下面我們來看具體的應用。


        等離子在電池片工藝中的應用


        01 清洗與制絨

        在清洗與制絨工藝環(huán)節(jié),一般是用堿性或酸性腐蝕液進行濕式化學清洗,制絨效果不僅受多因素影響,且多孔硅結構松散不穩(wěn)定,具有較高表面復合率。

        等離子清洗機處理方案:

        使用離子體的高速粒子轟擊電池片表面,可將絨面處理的更加細致有序,表面結構也更加穩(wěn)定,減少復合中心的產生;還可同時清除材料表面的指紋油污,減少濕式處理的烘干環(huán)節(jié)。



        02 刻蝕&去磷硅玻璃


        在上道擴散工藝中,PN結的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區(qū)域流到PN結的背面,從而造成短路。因此,必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕,以去除電池邊緣的PN結。

        通常采用等離子刻蝕技術完成這一工藝。等離子體可以通過粒子吹掃將多余擴散的磷分解,從而達到去除PSG的目的。


        03 PECVD


        為了減少表面反射,提高電池的轉換效率,需要沉積一層氮化硅減反射膜。

        工業(yè)生產中常采用PECVD設備制備減反射膜,PECVD即等離子增強型化學氣相沉積,它是利用低溫等離子體作能量源,產品置于低氣壓下輝光放電的陰極上,利用輝光放電使產品升溫到預定的溫度,然后通入適量的反應氣體SiH4和NH3,氣體經一系列化學反應和等離子體反應,在產品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜。


        晟鼎等離子清洗機


        適用于光伏玻璃、電池片、背板、框架等部件的清洗活化,可搭配直噴或旋轉槍頭,可定制大氣等離子流水線設備。



        適用于光伏玻璃、電池片、背板等部件的清洗活化,可客制化寬幅線性等離子流水線設備。


        適用于面積較大、形狀復雜的材料清洗,可搭配多路工藝氣體,可客制真空等離子流水線設備。


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