碳化硅（SiC）因其優(yōu)異的熱穩(wěn)定性、高硬度、高耐磨性和良好的化學穩(wěn)定性而備受關注，特別是在高溫、高壓和強腐蝕環(huán)境下，碳化硅（SiC）展現(xiàn)出卓越的性能，在半導體、核能、國防及空間技術等領域具有廣闊的應用前景。

接觸角測量儀通過光學投影的原理，對氣、液、固三相界面輪廓進行保真采集精密分析。接觸角測量儀測試方法包括座滴法、增液/縮液法、傾斜法、懸滴法、纖維裹附法、氣泡捕獲法、批量擬合法、插板法等。

等離子技術作為汽車行業(yè)的新興表面處理技術，可提高點膠、粘接、貼合、焊接、涂覆、封裝等工藝段質量，滿足汽車產(chǎn)業(yè)嚴格的生產(chǎn)要求，同時為汽車廠家提高產(chǎn)品良率，達到降本增效的目的。

傳統(tǒng)的爐管退火工藝因升溫速率緩慢，加熱時間長，晶片在長時間受熱的情況下會出現(xiàn)雜質擴散嚴重等問題。隨著芯片制造技術的不斷進步，對退火工藝的要求也越來越高，RTP快速退火爐的競爭優(yōu)勢越來越明顯：具有獨特的水平均溫處理技術，在退火過程中，不僅能在極短的時間內(nèi)實現(xiàn)升溫和冷卻，提升晶圓退火的效率和效果，還能同時保證晶圓表面的溫度分布均勻性和穩(wěn)定性，總體熱預算較低，可以更好地提高晶圓的性能，滿足先進半導體的制造需求。

等離子清洗機在動力電池發(fā)展方面起到了至關重要的作用。通過其高效的表面清洗和改性能力，等離子清洗機為動力電池制造提供了更加可靠、穩(wěn)定的表面處理解決方案，增強了動力電池的安全性和可靠性。大氣等離子清洗機，適用于各種平面材料清洗，在動力電池領域，可搭配旋轉槍頭使用，有效粗化材料表面，提高表面附著力和潤濕性。

RTP快速退火爐是一種廣泛應用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體、歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物/氮化物生長等工藝中的加熱設備，能夠在短時間內(nèi)將半導體材料迅速加熱到高溫，具備良好的熱均勻性。RTP快速退火爐提供了更先進的溫度控制，可以實現(xiàn)秒級退火，提高退火效率的同時可有效節(jié)約企業(yè)的生產(chǎn)成本。