碳化硅（SiC）因其優(yōu)異的熱穩(wěn)定性、高硬度、高耐磨性和良好的化學(xué)穩(wěn)定性而備受關(guān)注，特別是在高溫、高壓和強(qiáng)腐蝕環(huán)境下，碳化硅（SiC）展現(xiàn)出卓越的性能，在半導(dǎo)體、核能、國防及空間技術(shù)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。

接觸角測量儀通過光學(xué)投影的原理，對氣、液、固三相界面輪廓進(jìn)行保真采集精密分析。接觸角測量儀測試方法包括座滴法、增液/縮液法、傾斜法、懸滴法、纖維裹附法、氣泡捕獲法、批量擬合法、插板法等。

等離子技術(shù)作為汽車行業(yè)的新興表面處理技術(shù)，可提高點(diǎn)膠、粘接、貼合、焊接、涂覆、封裝等工藝段質(zhì)量，滿足汽車產(chǎn)業(yè)嚴(yán)格的生產(chǎn)要求，同時(shí)為汽車廠家提高產(chǎn)品良率，達(dá)到降本增效的目的。

傳統(tǒng)的爐管退火工藝因升溫速率緩慢，加熱時(shí)間長，晶片在長時(shí)間受熱的情況下會出現(xiàn)雜質(zhì)擴(kuò)散嚴(yán)重等問題。隨著芯片制造技術(shù)的不斷進(jìn)步，對退火工藝的要求也越來越高，RTP快速退火爐的競爭優(yōu)勢越來越明顯：具有獨(dú)特的水平均溫處理技術(shù)，在退火過程中，不僅能在極短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)升溫和冷卻，提升晶圓退火的效率和效果，還能同時(shí)保證晶圓表面的溫度分布均勻性和穩(wěn)定性，總體熱預(yù)算較低，可以更好地提高晶圓的性能，滿足先進(jìn)半導(dǎo)體的制造需求。

等離子清洗機(jī)在動力電池發(fā)展方面起到了至關(guān)重要的作用。通過其高效的表面清洗和改性能力，等離子清洗機(jī)為動力電池制造提供了更加可靠、穩(wěn)定的表面處理解決方案，增強(qiáng)了動力電池的安全性和可靠性。大氣等離子清洗機(jī)，適用于各種平面材料清洗，在動力電池領(lǐng)域，可搭配旋轉(zhuǎn)槍頭使用，有效粗化材料表面，提高表面附著力和潤濕性。

RTP快速退火爐是一種廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導(dǎo)體、歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物/氮化物生長等工藝中的加熱設(shè)備，能夠在短時(shí)間內(nèi)將半導(dǎo)體材料迅速加熱到高溫，具備良好的熱均勻性。RTP快速退火爐提供了更先進(jìn)的溫度控制，可以實(shí)現(xiàn)秒級退火，提高退火效率的同時(shí)可有效節(jié)約企業(yè)的生產(chǎn)成本。