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等離子表面處理是通過對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子體。等離子體的“活性”組成包括：離子、電子、原子、活性基因等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。
寬幅等離子清洗機的結構主要分為四大組成部分：高壓激勵電源、線性等離子發(fā)生裝置、氣體輸送系統(tǒng)、控制系統(tǒng)。
（A）高壓激勵電源：采用射頻電源（13.56MHz）進行激勵，保障等離子體均勻，處理過程穩(wěn)定。參數(shù)根據(jù)樣品實際情況可進行調節(jié)，已達到的改性效果。
（B）線性等離子發(fā)生裝置：采用特有的等離子發(fā)生結構，常規(guī)處理溫度＜35℃，均勻穩(wěn)定，提高和保證設備的使用壽命和性能。
（C）氣體輸送系統(tǒng)：搭配Ar和與O?兩路氣體，根據(jù)清洗材質的不同，搭配不同氣體。
（D）控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)作用在于控制整個寬幅射頻等離子清洗設備的運行，以及整體系統(tǒng)的保護。
應用1.png "寬幅射頻等離子清洗機行業(yè)應用")
| 設備尺寸 | 1800*1247*1675mm（長*寬*高） |
| 重量 | 300KG |
| 需求電源 | AC 220V/50Hz 單相2.5KW |
| 電源功率 | 0-1000W可調（建議0-650W） |
| 電源頻率 | 13.56MHz |
| 匹配器 | 全自動真空電容匹配器 |
| 處理寬幅 | 800mm |
| 槍頭尺寸 | 870*90*74mm（長*寬*高） |
| 重量 | 10KG |
| 槍頭可調節(jié)高度 | 0-10mm（調節(jié)精度±0.3） |
| 常用處理高度 | 1-5mm以內 |
| 槍頭冷卻范圍 | 25-35℃ |
| 使用氣體 | Ar和O2兩路氣體 |
| Ar氣體調節(jié)范圍 | ≤50L/min |
| O2氣體調節(jié)范圍 | ≤50SCCM |
| 流水線速度 | 0-100mm/s可調 |
| 傳送皮帶 | 1.8米 |
| 皮帶材質 | 防滑PU |
| 感應系統(tǒng) | 卡片與疊片感應與急停、氣壓報警、功率報警 |
| 報警 | 具備聲光報警功能 |
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